Limpie la temperatura del espacio y la humedad se determinan principalmente de acuerdo con los requisitos del proceso, pero cumplen con los requisitos técnicos bajo los 2014 Weifang condiciones de sala limpia, debe tener en cuenta el sentido de la comodidad de la persona. Con la mejora de los requisitos de limpieza del aire, los requisitos del proceso de la aparición de tendencias de temperatura y humedad cada vez más estrictas. Después de requisitos de temperatura del proceso específico, sino también enumerado, pero como regla general, debido a la precisión de mecanizado más sofisticado, por lo que el rango de fluctuación de la temperatura de las demandas de más y más peque?os. Por ejemplo, en la producción de proceso de exposición litografía circuito integrado a gran escala, como el coeficiente de expansión térmica del vidrio y la máscara y la oblea requiere más peque?a diferencia. 100 um obleas de diámetro, la temperatura sube un grado, que causó una expansión 0.24um lineal, por lo que debe ser una temperatura constante ± 0,1 grados, mientras que requieren humedad es generalmente baja, ya que después la gente suda, el producto tendrá la contaminación, especialmente El sodio es planta de semiconductores miedo, esta planta no debe superar los 25 grados. La alta humedad genera más problemas. Cuando la humedad relativa es superior a 55%, las paredes de la agua de refrigeración, condensación, si se produce en los dispositivos o circuitos de precisión, pueden causar una variedad de accidentes. De humedad relativa a 50% de óxido. Además de la última Weifang habitación limpia, las moléculas de agua en el aire por la adhesión a la superficie de silicio de la adsorción química del polvo en la superficie cuando la humedad es demasiado alta resistencia difíciles de eliminar. Cuanto mayor sea la humedad relativa de la sala limpia de Weifang, la adherencia es difícil de eliminar, pero cuando la humedad relativa es inferior al 30%, debido a una fuerza electrostática y las partículas son fácilmente adsorbido en la superficie, mientras que un gran número de dispositivos semiconductores propensas a la ruptura. Para el rango de temperatura óptima de producción de obleas de 35-45%. Flujo caótico (flujo turbulento) conducto de aire de la caja de aire y de sala limpia a través del filtro de aire (HEPA) en la sala de sala limpia limpia en el presupuesto de Weifang de la pared de la sala limpia o compartimentos superiores en ambos lados del piso de espaldas al viento. Flujo no lineal del movimiento irregular de la turbulencia o el estado vórtice. Este patrón se aplica para clasificar 1.000 a 100.000 de clase de sala limpia. Ventajas: estructura simple, de bajo costo de construcción del sistema, la cámara de expansión es relativamente fácil de limpiar, y en algunos lugares con fines especiales, se puede usar en banco limpio, clase de sala limpia mejoraron. Contras: la turbulencia causada por las partículas de polvo en los espacios interiores flotantes difícil de asumir, productos del proceso fácilmente contaminados. Además, si el sistema deja de funcionar la reactivación, la falta de las necesidades de limpieza, a menudo toma un largo período de tiempo que se requiere. Weifang Dongye Acero, [presupuesto] Weifang habitación limpia, limpia proporcionada por Weifang Dongye Acero. Búsqueda de "fábricas de acero, plantas de purificación, las actividades de la junta, los paneles de lana de roca y otros" proveedores difíciles, los operadores de redes elegir que toda la certificación de la alianza: Weifang Dongye acero Engineering Co., Ltd. (www.sdjinquan.com), honradez y fiabilidad, ahora haga clic en el "Apoyo de la Liga de Empresas" en la página de chat en vivo con nosotros ahora!